功能
熟悉的工作区
笔刷、图层和蒙版——将插画软件中熟悉的工具和布局，直接应用于 3D 表面。
绘画工具
笔刷、套索、渐变、湿画与模糊
完整的绘画工具集——笔刷、套索裁剪、渐变、湿画和模糊——直接作用于 3D 几何。
图层
完整的图层系统
绘画图层、填充图层、可编辑蒙版、混合模式和不透明度，完全非破坏性编辑。
对称
沿任意轴镜像作品
3D 和 2D 对称，支持独立配置枢轴。
3D 绘画
贴合表面的笔划
真正的 3D 绘画，在世界空间计算球形和棱柱形笔刷衰减。没有投影瑕疵或明显接缝。
多通道
一笔绘制颜色、粗糙度与金属度
同时在多个 PBR 通道上绘制，或为 NPR 和风格化着色器定义自定义通道布局。
项目
每个项目支持多个模型与材质
在单个项目中处理多个网格、材质和纹理集。通过全面可配置的通道打包流程导出。
性能
为各种设备而打造。
凭借深度优化，Wafer 可在低配置旧设备上流畅运行，也能以每层最高 64K 分辨率充分发挥现代硬件的性能。
不受分辨率影响的速度
笔刷和工具性能稳定、可预测，几乎不受纹理分辨率、图层数量或笔划速度影响。
广泛兼容
无需特殊 GPU 或 CPU 功能。Wafer 可在过去十余年的兼容设备上提供出色的绘画性能（256 MB 内存、OpenGL 2.0）。
低功耗
极低的资源占用让设备保持凉爽，长时间工作时也能延长电池续航。
大致峰值内存占用
RGBA 8 位纹理／4 个分层材质
分辨率对比——每个方块代表一张 4K 纹理
唯一的限制是可用内存。
资产浏览器
内置资产浏览器
浏览纹理并立即应用到任意工具。模板、三平面映射纹理、笔刷 Alpha、HDRI、贴花和印章均集中在同一面板中，井然有序，随时可用。
模板
将图案投射到表面
三平面投影
将纹理包裹在 3D 几何上
笔刷 Alpha
自定义笔刷笔尖形状
贴花与印章
精确放置细节纹理
工作流程
更多功能
精细控制工作流程的每个环节
影响范围系统
精确控制工具作用区域
根据面朝向、法线方向、拓扑连通性、UV 岛或自定义纹理贴图限制工具影响范围。
可配置的导出器
为任意流程打包纹理
精确定义各通道对应的输出纹理，全面控制分辨率、格式和通道打包。
参考板
内置参考板
将参考图像固定为第二个视口，并直接从参考板采样颜色。
3D 与 2D 绘画
两个视图，始终同步
在无光照、着色或 PBR 预览下绘制 3D 网格，或直接编辑 2D 纹理，两个视图可并排显示。
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